英飛凌宣布兩項合作,助力電能突破

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 05 月 21 日 15:24 | 分類 企業(yè) , 碳化硅SiC

近期,媒體報道英飛凌兩項電源領域合作。

5月20日,英飛凌公司表示,將與英偉達合作開發(fā)下一代電源系統(tǒng),以革新未來人工智能數據中心所需的電力傳輸架構。英飛凌表示,該全新系統(tǒng)架構能顯著提升數據中心內電能分配效率,并支持在服務器主板內直接為AI芯片(圖形處理器GPU)進行電力轉換。

同日,英飛凌官微發(fā)布消息表示,近期公司與深圳優(yōu)優(yōu)綠能股份有限公司深化合作,通過提供英飛凌先進的CoolMOS?和TRENCHSTOP? IGBT,CoolSiC? MOSFET和EiceDRIVER?驅動器等全套功率半導體解決方案,全面賦能優(yōu)優(yōu)綠能新一代高質量40kW/60kW獨立風道充電模塊、液冷充電模塊以及V2G車網互動解決方案的技術升級,顯著提升充換電設備的電能轉換效率與穩(wěn)定性,為充電行業(yè)的高質量發(fā)展注入新動能。

圖片來源:英飛凌——圖為優(yōu)優(yōu)綠能40kW/60kW全碳化硅充電模塊

英飛凌表示,碳化硅器件與生俱來的高功率密度優(yōu)勢,能優(yōu)化電路拓撲結構,有效減少線損,降低導通損耗和開關損耗,是打造高性能、輕量化、緊湊型充電解決方案的理想選擇。通過采用英飛凌CoolSiC?碳化硅解決方案,優(yōu)優(yōu)綠能充電模塊效率提升至97.5%以上。

在顯著提升效率的同時,英飛凌CoolSiC?溝槽柵技術通過更厚的氧化層和更高的篩選電壓,最大限度地降低了柵極氧化層缺陷率,保障了產品的可靠性。這種對碳化硅材料物理底層的深度理解,以及超過40年溝槽柵技術、溝槽底部電場均勻設計的長期積累,使得英飛凌在碳化硅領域提前占據了可靠性的領先地位。

隨著新能源汽車充電需求向大功率、高頻化方向升級,英飛凌CoolSiC?技術正以高效、可靠的雙重優(yōu)勢,加速推動全球充電樁行業(yè)向高質量發(fā)展轉型。

(集邦化合物半導體整理)

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