3月12日，中微公司宣布其等離子體刻蝕設備反應總臺數全球累計出貨超過5000臺，涉及CCP高能等離子體刻蝕機和ICP低能等離子體刻蝕機、單反應臺反應器和雙反應臺反應器共四種構型的設備。
中微公司介紹，等離子體刻蝕機，是光刻機之外，最關鍵的、也是市場最大的微觀加工設備。由于微觀器件越做越小和光刻機的波長限制，也由于微觀器件從二維到三維發(fā)展，刻蝕機是半導體設備過去十年增長最快的市場。
中微公司不斷拓展等離子體刻蝕設備產品線，以滿足先進的芯片器件制造日益嚴苛的技術需求。中微公司的等離子體刻蝕設備不斷擴大市場占有率，其中，CCP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于37%，已突破4000個反應臺；ICP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于100%，已突破1000個反應臺。
截至2025年2月底，公司累計已有超過5400個反應臺在國內外130多條生產線，全面實現了量產和大規(guī)模重復性銷售。中微公司表示，這一重要里程碑標志著公司在等離子體刻蝕設備領域持續(xù)得到客戶與市場的廣泛認可，并彰顯了公司在等離子體刻蝕領域已進入國際前列。（集邦化合物半導體整理）
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