拓荊科技作為國內薄膜沉積行業(yè)領軍者，其產品線包括離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三大系列。產品已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯(lián)芯、燕東微電子等國內主流晶圓廠產線。
近期接受調研表示，公司幾大產品線都取得了不同程度的進展。其中ALD設備系列產品（包括PE-ALD設備和Thermal-ALD設備，PE-ALD設備）已實現(xiàn)量產，可以沉積SiO2、SiN等介質薄膜材料，Thermal-ALD設備已出貨至不同客戶端進行驗證，可以沉積Al2O3等金屬化合物薄膜；SACVD和HDPCVD設備均已實現(xiàn)產業(yè)化。
在混合鍵合設備的進展方面，拓荊科技表示，晶圓對晶圓鍵合產品（Dione 300）已通過客戶驗收，并獲得了重復訂單，芯片對晶圓鍵合表面預處理產品（Pollux）已出貨至客戶端驗證。鍵合設備市場規(guī)模目前很難量化，潛在市場需求和未來增長空間較大。
從今年上半年的業(yè)績來看，拓荊科技上半年的營收為10.04億，同比增長91.83%，凈利潤為1.25億，同比增長15.22%。拓荊科技表示，公司對下半年還是保持樂觀態(tài)度，目前工廠基本上已經是滿負荷運轉，且在手的訂單飽滿，具體簽訂單情況要視客戶需求而定。
source:拓荊科技
在產能方面，拓荊科技位于沈陽的總部年產能約300-350臺套，上海臨港一期研發(fā)與產業(yè)化基地建設廠房改造已經完成并投入使用，開始開展研發(fā)和生產相關工作，上海臨港二期研發(fā)與產業(yè)化基地正在建設中，待建成投入使用后，公司每年的總產能約增加一倍。
（文：集邦化合物半導體Jump整理）
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